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俄羅斯研發成功光刻機,ASML的獨門生意不好做了

2024-05-26 13:23
柏銘007
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俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長 Vasily Shpak 表示已研發成功350納米光刻機,接下來是希望在2026年研發可以支持130納米的光刻機,這意味著該國正在打破ASML在光刻機市場的壟斷。

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在全球光刻機市場,ASML無疑是老大,占有超過六成的市場份額,在EUV光刻機方面更是獨門生意,全球僅有ASML能生產EUV光刻機。

不過EUV光刻機雖然是ASML的獨門生意,但是為ASML帶來更多收入的還是DUV光刻機,ASML也只是預期未來EUV光刻機的產量提升到100臺,而DUV光刻機的產量提高到600臺,可見DUV光刻機的市場規模大得多。

在DUV光刻機方面,其實并非ASML所獨有,日本的尼康、佳能等也在生產DUV光刻機,只不過日本的光刻機在浸潤式和EUV光刻機方面落后于ASML,如今佳能則選擇了研發NIL技術,繞開EUV光刻機的限制,據稱佳能的NIL技術已得到日本鎧俠和美國美光的采用。

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除了他們之外,中國其實也能生產光刻機,只不過公開的報道指出中國研發的光刻機在65納米以上,而中國正在努力研發28納米以下的浸潤式光刻機,浸潤式光刻機可以發展到7納米工藝。

中國的芯片制造企業目前就以浸潤式光刻機研發接近7納米的工藝,某國產手機的5G芯片被認為就是以接近7納米的工藝生產,這是國產芯片的重大進步,意味著國產芯片在先進工藝方面取得了重大突破。

業界人士指出中國所需求的芯片,7納米以上工藝占七成到九成,中國如能實現7納米的大規模量產,那么國產芯片的自給率可以大幅提升,而這幾年中國芯片由于國產芯片替代,芯片進口大幅減少,2023年的芯片進口金額較2021年減少了近千億美元。

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俄羅斯如今也開始自研光刻機,在于眾所周知的影響,導致俄羅斯無法進口光刻機,而推進自研光刻機,如今它實現自研光刻機的重大突破,代表著它的光刻機產業開始起步。

對于光刻機這個行業來說,有了起步,后續可以逐步升級,光刻機本身就是一條很長的產業鏈,ASML的EUV光刻機就需要全球5000家企業協作生產,俄羅斯實現自研光刻機,意味著它已打造了一條完整的光刻機產業鏈。

不過從俄羅斯的光刻機產業發展也可以看出,它的進展過于緩慢了,預計到2026年才量產130納米光刻機,而2026年全球的先進工藝將發展到2納米,俄羅斯的光刻機發展無疑比全球落后太多。

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全球的芯片產業鏈曾經強調自由貿易,但是卻由于種種原因被打斷,如今各國都開始發展自己的芯片產業鏈,對全球芯片產業將產生重要影響,這樣的結果顯然與自由貿易相違背,導致如此結果是某國造成的,它曾力推自由貿易,如今卻又強勢打斷,凸顯出它的強橫和任性。

       原文標題 : 俄羅斯研發成功光刻機,ASML的獨門生意不好做了

聲明: 本文由入駐維科號的作者撰寫,觀點僅代表作者本人,不代表OFweek立場。如有侵權或其他問題,請聯系舉報。

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