一直以來，國產芯片研發先進工藝都存在不小的爭議，因為ASML沒有將先進的EUV光刻機賣給中國芯片企業，中國芯片企業之前買下的最先進光刻機也是2000i，臺積電曾以這款光刻機生產7納米。

為了打破芯片工藝對國產芯片的限制，國內芯片制造企業一直在嘗試以現有的浸潤式DUV光刻機開發7納米乃至5納米工藝，其中的一項重要技術是多重曝光技術，而國內企業也曾被曝出申請多重曝光專利。

不過由于國外的芯片企業沒有采用浸潤式DUV光刻機生產5納米工藝的先例，這讓業界人士擔憂中國芯片是否真的有能力以現有的DUV光刻機生產5納米工藝。

近期海外有實驗室對此進行嘗試，他們已證明了以浸潤式DUV光刻機確實可以生產5納米工藝，通過多重曝光技術以及其他技術的輔助，甚至可以生產出比臺積電的5納米更先進的工藝。

海外的相關人士也指出，雖然用這種方式可以生產出5納米工藝，但是后果是良率偏低、成本很高，對于海外的芯片制造企業來說，他們能買到EUV光刻機，用EUV光刻機生產5納米工藝可以達到更加的經濟成本，這種技術對于海外的芯片制造企業來說沒多大意義。

對于中國芯片行業來說，用現有的DUV光刻機生產5納米工藝則具有重要意義，如今先進芯片在諸多行業的應用都越來越廣泛，先進芯片可以提供更強的性能、更低的功耗，除了手機需要之外，服務器、PC都需要先進工藝的芯片，特別是服務器行業，耗電量巨大，互聯網企業為了降低功耗甚至在北極圈內建設數據中心。

對于這些行業來說，中國目前恰恰因為某國的做法，越來越難以買到先進芯片，如此情況下，加快國產先進芯片的研發就尤為重要，成本的影響可以暫時放到一邊，而這些行業對于先進芯片的需求量其實占整體芯片需求量的比例也較低，解決先進芯片的有無問題更為重要。

業界人士指出中國需求的芯片有七成以上都是14納米以上工藝，這些工藝如今國內已能實現大規模量產，對全球市場已產生重要影響，甚至中國的成熟工藝芯片還走向海外市場，搶走了海外芯片不少的市場份額。

如果中國的先進工藝芯片實現量產，那么至少滿足國內的需求不成問題，如此中國可以大幅減少先進芯片的進口，還能為國內當下快速發展的AI等提供有力的支持，美國目前就屢屢在服務器芯片、AI芯片方面限制供應，如此情況下，實現先進工藝芯片的自產就更有獨特的意義了。

在全球芯片市場，華人都證明了對芯片技術的深刻理解，中國臺灣的臺積電就已在先進工藝方面領先于美國，Intel當年的芯片發展也曾有華人做出了卓越貢獻，如今NVIDIA、AMD等諸多美國芯片企業都有大量華人從事技術工作，中國擁有最多的技術人才，相信他們終究能解決芯片工藝的限制。

       原文標題 : 正式確認，國內的光刻機完全可以生產5納米，先進工藝不再是桎梏